生產型GaNMOCVD設備控制系統軟件設計
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上傳人：胡曉宇、何華云 上傳時間： 2013-08-14 瀏覽次數： 88 |
| 作者 | 胡曉宇、何華云 |
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| 單位 | 中國電子科技集團公司第四十八研究所、中國電子科技集團公司第四十八研究所 |
| 分類號 | TN304.05;TP311.52 |
| 發表刊物 | 《電子工業專用設備》 |
| 發布時間 | 2006年 |
1 引言
金屬有機化合物化學氣相外延(MOCVD：Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 是制造超薄層微結構(低維半導體材料)最常用、成本較低、生產量大的制備方法之一，有著廣闊的市場前景。國際上MOCVD 技術已經相當成熟，形成了產業化規模(6 片、19 片、24 片及30 片以上等)。國內由于種種原因發展非常有限，只在研究所和大學實驗室進行相關的研發工作，尚未形成產業化，而生產型的GaN MOCVD 設備完全依賴進口。
......
1、引言
2、GaN MOCVD 控制系統結構
3、國外部分控制系統簡介
4、GaN MOCVD 控制系統自主開發關鍵技術
5、國內MOCVD 計算機控制系統研究進展
6、MOCVD 控制技術發展趨勢
7、結束語
8、致謝
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